多弧离子镀是采用电弧放电的方法,在固体的阴靶材上直接蒸发金属,蒸发物是从阴弧光辉点放出的阴物质的离子,从而在基材表面沉积成为薄膜的方法。
多弧离子镀膜机技术指标
真空室尺寸:单室,ø1000*1000mm2,有效镀膜空间:ø600*600mm2 抽真空时间:<15min(室温空真空室从大气压抽到4.0*10-3Pa) 限压力:3.0×10-4Pa 工作真空度:10~1.0×10-1Pa 偏压电源:输出功率30kw,输出电压0~1000V,输出占空比调节范围:0~90% 总功率:70KVA,380~400v/220~240v,50~60HZ。
多弧离子镀膜机主要功能
1、硬质合金的硬质涂层制备;
2、电子材料耐蚀涂层的涂覆;
3、新型复合防腐硬质涂层材料开发和研究;
4、纳米梯度涂层材料的研究;
5、非金属制品的仿金涂层制备。
多弧离子镀膜机
用于金属、陶瓷、玻璃等材质表面镀制各种硬质金属膜、金属化合物膜及装饰膜。具有抽速快、真空稳定,装载量大、镀膜均匀性好的特点。广泛应用于手表、眼镜、资讯产品 模具、五金、玻璃、陶瓷、建材等行业表面处理,是镀制TP仿金、TPC、TP浅、TP咖啡色、TP玫瑰、香槟金、千邑色等膜层的理想设备。本机不污染环境,所镀膜层无毒,对人体无害,是解决水电镀厂环境污染问题,替代传统水电镀金,镀烙的理想设备。
多弧离子镀膜机与磁控溅射镀膜机的区别
多弧离子镀膜机通过向弧靶通大电流,通过引弧针引弧,在靶表面产生电弧,电弧温度很高,融化靶材,通过在产品上加偏压,被融化的靶材沉积在产品上。
磁控溅射镀膜机,通过氩离子轰击靶材,把靶材溅射到产品上形成镀膜,磁控是通过磁场约束氩离子多次轰击靶材提率。
现在国产机器都是二合一的,两种功能都具备。
我们公司一直秉承“以市场为导向,以客户为中心,建立良好的客户服务理念,为客户创造价值"的经营方针,历经市场的长期洗礼,逐步积累了丰富的资源和良好的口碑,被客户广泛的视为值得信赖的战略合作伙伴。
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