多弧离子镀膜机的电弧蒸发源适用范围较广,既可反离子镀,又可蒸镀金属结构材料、合金材料。且由于离子镀具备沉积速度快、镀料适用广、镀层附着粘合性良好、膜致密性高等特点,现在其应用日益广泛,在未来是可能逐渐取代湿式电镀的存在。目前,在电子、化工、轻工、机械、国防、采矿、冶金等诸多行业领域均有涉及。
多弧离子镀膜机主要功能
1、硬质合金的硬质涂层制备;
2、电子材料耐蚀涂层的涂覆;
3、新型复合防腐硬质涂层材料开发和研究;
4、纳米梯度涂层材料的研究;
5、非金属制品的仿金涂层制备。
多弧离子镀膜机与磁控溅射镀膜机的区别
多弧离子镀膜机通过向弧靶通大电流,通过引弧针引弧,在靶表面产生电弧,电弧温度很高,融化靶材,通过在产品上加偏压,被融化的靶材沉积在产品上。
磁控溅射镀膜机,通过氩离子轰击靶材,把靶材溅射到产品上形成镀膜,磁控是通过磁场约束氩离子多次轰击靶材提率。
现在国产机器都是二合一的,两种功能都具备。
多弧离子镀膜机
用于金属、陶瓷、玻璃等材质表面镀制各种硬质金属膜、金属化合物膜及装饰膜。具有抽速快、真空稳定,装载量大、镀膜均匀性好的特点。广泛应用于手表、眼镜、资讯产品 模具、五金、玻璃、陶瓷、建材等行业表面处理,是镀制TP仿金、TPC、TP浅、TP咖啡色、TP玫瑰、香槟金、千邑色等膜层的理想设备。本机不污染环境,所镀膜层无毒,对人体无害,是解决水电镀厂环境污染问题,替代传统水电镀金,镀烙的理想设备。
多弧离子镀膜机的电弧蒸发源原理是通过一个冷阴自持电弧放电,是一种场致发射。蒸发源的典型的基本配置为:受镀基材与阴相接,阳接真空室,待真空室抽到到高些的真空状态、触发电启动器接触打开,形成一个稳定的电弧放电于阳和阴之间。而在阴的表面覆盖有很多快速移动的阴斑,斑直径在1μm到两微米之间,还有直径约10μm的光斑,有每秒移动几十米的速度,电流之间密度为10 A/cm-10 A/cm,间电压也降低到20V-40V之间。
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