多弧离子镀膜机行业虽然为制造业,但是对于技术的开发和创新需求较高,人力资本对多弧离子镀膜机企业的经营发展影响深远。随着城市生活成本快速上升,社会平均工资逐年递增,具有丰富业务经验和素质的中人才工资薪酬呈上升趋势,导致未来行业内企业将面临人力成本上升利润水平下降的风险。
多弧离子镀膜机的蒸发源是一种比较的冷阴电弧放电的自蒸发、自电离式的一种固体型蒸发源。
相较于传统的蒸发源,多弧离子镀膜机的电弧蒸发源的特点明显:
1、镀膜膜层致密度高,膜层寿命长、强度高;
2、作为固体型的电弧蒸发源,可改变其形状、大小及位置;
3、运行真空范围大;
4、更高的离子能量;
5、可达60%-80%的高离化率;
6、高沉积速率,如TiN,可做到100nm/s~1000nm/s的高沉积速率。
多弧离子镀膜机主要功能
1、硬质合金的硬质涂层制备;
2、电子材料耐蚀涂层的涂覆;
3、新型复合防腐硬质涂层材料开发和研究;
4、纳米梯度涂层材料的研究;
5、非金属制品的仿金涂层制备。
多弧离子镀膜机与磁控溅射镀膜机的区别
多弧离子镀膜机通过向弧靶通大电流,通过引弧针引弧,在靶表面产生电弧,电弧温度很高,融化靶材,通过在产品上加偏压,被融化的靶材沉积在产品上。
磁控溅射镀膜机,通过氩离子轰击靶材,把靶材溅射到产品上形成镀膜,磁控是通过磁场约束氩离子多次轰击靶材提率。
现在国产机器都是二合一的,两种功能都具备。
多弧离子镀膜机技术指标
真空室尺寸:单室,ø1000*1000mm2,有效镀膜空间:ø600*600mm2 抽真空时间:<15min(室温空真空室从大气压抽到4.0*10-3Pa) 限压力:3.0×10-4Pa 工作真空度:10~1.0×10-1Pa 偏压电源:输出功率30kw,输出电压0~1000V,输出占空比调节范围:0~90% 总功率:70KVA,380~400v/220~240v,50~60HZ。
我们公司一直秉承“以市场为导向,以客户为中心,建立良好的客户服务理念,为客户创造价值"的经营方针,历经市场的长期洗礼,逐步积累了丰富的资源和良好的口碑,被客户广泛的视为值得信赖的战略合作伙伴。
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