我国在真空镀膜行业，目前更多的应用都集中在装饰方面，对能有效地提高关键部件使用寿命机械功能薄膜的制备设备、工艺及应用研究方面还远远落后于国外水平。同时，装饰镀方面也逐渐向耐磨和装饰双重功能的方向发展，之前的离子镀膜机已体现出不能满足装饰镀要求的问题。本技术的研发成功，将打破国内高性能机械功能耐磨减摩薄膜*依靠*的被动局面；对提高我国装备制造业的技术水平和真空离子镀的技术发展都是一个非常好的示范作用。另外，将制备的耐磨减摩薄膜应用于其它关键部件中，起到了非常好的节约能源和提率的示范作用，可替代部分原来电镀的工艺，对环境保护起到很好的作用。

　　多弧离子镀膜机的电弧蒸发源原理是通过一个冷阴自持电弧放电，是一种场致发射。蒸发源的典型的基本配置为：受镀基材与阴相接，阳接真空室，待真空室抽到到高些的真空状态、触发电启动器接触打开，形成一个稳定的电弧放电于阳和阴之间。而在阴的表面覆盖有很多快速移动的阴斑，斑直径在1μm到两微米之间，还有直径约10μm的光斑，有每秒移动几十米的速度，电流之间密度为10 A/cm-10 A/cm，间电压也降低到20V-40V之间。

　　多弧离子镀膜机技术指标

　　真空室尺寸:单室,ø1000*1000mm2，有效镀膜空间：ø600*600mm2 抽真空时间：＜15min（室温空真空室从大气压抽到4.0*10-3Pa） 限压力:3.0×10-4Pa 工作真空度:10~1.0×10-1Pa 偏压电源：输出功率30kw，输出电压0~1000V，输出占空比调节范围：0~90% 总功率：70KVA，380~400v/220~240v,50~60HZ。

　　多弧离子镀膜机与磁控溅射镀膜机的区别

　　多弧离子镀膜机通过向弧靶通大电流，通过引弧针引弧，在靶表面产生电弧，电弧温度很高，融化靶材，通过在产品上加偏压，被融化的靶材沉积在产品上。

　　磁控溅射镀膜机，通过氩离子轰击靶材，把靶材溅射到产品上形成镀膜，磁控是通过磁场约束氩离子多次轰击靶材提率。

　　现在国产机器都是二合一的，两种功能都具备。

　　多弧离子镀膜机

　　用于金属、陶瓷、玻璃等材质表面镀制各种硬质金属膜、金属化合物膜及装饰膜。具有抽速快、真空稳定，装载量大、镀膜均匀性好的特点。广泛应用于手表、眼镜、资讯产品 模具、五金、玻璃、陶瓷、建材等行业表面处理，是镀制TP仿金、TPC、TP浅、TP咖啡色、TP玫瑰、香槟金、千邑色等膜层的理想设备。本机不污染环境，所镀膜层无毒，对人体无害，是解决水电镀厂环境污染问题，替代传统水电镀金，镀烙的理想设备。

　　我们公司能够解决真空设备的各种疑难杂症。帮助客户提供高性价比的二手真空镀膜机，玻璃镀膜机，五金真空镀膜机，二手轮毂镀膜机，二手蒸发镀膜机，二手离子镀膜设备等。设备型号齐全。