多弧离子镀膜机突出的经典应用就是于上镀氮化钛超硬镀层。可以镀制TiC、TiN等超硬膜，铜、银、铝、铬、钇等高低温耐腐蚀膜，或是不锈钢、黄铜、镍铬等装饰、保护膜层以及WC类金刚石等特硬膜。

　　所谓多弧离子镀膜机就是用多个电弧蒸发源为核心的一种离子镀膜设备，通常又叫多弧镀膜、弧镀、电弧镀膜等。相较于其他镀膜工艺，它具备的特点有：

　　1、机械整体简单、设备生产效率高、工作周期短、适合大批量的工业化生产。

　　2、较大的镀膜空间。 电弧蒸发源为固态，可灵活放置，所以工件在装卡更换时更加简单，无需附加加热器使用。

　　3、工艺范围广。适合在较高真空或较低环境温度（200C）下做反应镀、离子镀。

　　4、具备优异的膜性能。工件的轰击加热、清洁和沉积交由离化金属等离子体轰击完成，实现“一弧三用"，且膜层结构致密性高，膜层与镀件牢固结合。

　　多弧离子镀膜机的蒸发源是一种比较的冷阴电弧放电的自蒸发、自电离式的一种固体型蒸发源。

　　相较于传统的蒸发源，多弧离子镀膜机的电弧蒸发源的特点明显：

　　1、镀膜膜层致密度高，膜层寿命长、强度高；

　　2、作为固体型的电弧蒸发源，可改变其形状、大小及位置；

　　3、运行真空范围大；

　　4、更高的离子能量；

　　5、可达60％-80％的高离化率；

　　6、高沉积速率，如TiN，可做到100nm/s~1000nm/s的高沉积速率。

　　多弧离子镀膜机主要功能

　　1、硬质合金的硬质涂层制备；

　　2、电子材料耐蚀涂层的涂覆；

　　3、新型复合防腐硬质涂层材料开发和研究；

　　4、纳米梯度涂层材料的研究；

　　5、非金属制品的仿金涂层制备。

　　多弧离子镀膜机的电弧蒸发源原理是通过一个冷阴自持电弧放电，是一种场致发射。蒸发源的典型的基本配置为：受镀基材与阴相接，阳接真空室，待真空室抽到到高些的真空状态、触发电启动器接触打开，形成一个稳定的电弧放电于阳和阴之间。而在阴的表面覆盖有很多快速移动的阴斑，斑直径在1μm到两微米之间，还有直径约10μm的光斑，有每秒移动几十米的速度，电流之间密度为10 A/cm-10 A/cm，间电压也降低到20V-40V之间。

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