多弧离子镀膜机用于金属、陶瓷、玻璃等材质表面镀制各种硬质金属膜、金属化合物膜及装饰膜。具有抽速快、真空稳定，装载量大、镀膜均匀性好的特点。

　　多弧离子镀膜机

　　用于金属、陶瓷、玻璃等材质表面镀制各种硬质金属膜、金属化合物膜及装饰膜。具有抽速快、真空稳定，装载量大、镀膜均匀性好的特点。广泛应用于手表、眼镜、资讯产品 模具、五金、玻璃、陶瓷、建材等行业表面处理，是镀制TP仿金、TPC、TP浅、TP咖啡色、TP玫瑰、香槟金、千邑色等膜层的理想设备。本机不污染环境，所镀膜层无毒，对人体无害，是解决水电镀厂环境污染问题，替代传统水电镀金，镀烙的理想设备。

　　多弧离子镀膜机与磁控溅射镀膜机的区别

　　多弧离子镀膜机通过向弧靶通大电流，通过引弧针引弧，在靶表面产生电弧，电弧温度很高，融化靶材，通过在产品上加偏压，被融化的靶材沉积在产品上。

　　磁控溅射镀膜机，通过氩离子轰击靶材，把靶材溅射到产品上形成镀膜，磁控是通过磁场约束氩离子多次轰击靶材提率。

　　现在国产机器都是二合一的，两种功能都具备。

　　多弧离子镀膜机的电弧蒸发源原理是通过一个冷阴自持电弧放电，是一种场致发射。蒸发源的典型的基本配置为：受镀基材与阴相接，阳接真空室，待真空室抽到到高些的真空状态、触发电启动器接触打开，形成一个稳定的电弧放电于阳和阴之间。而在阴的表面覆盖有很多快速移动的阴斑，斑直径在1μm到两微米之间，还有直径约10μm的光斑，有每秒移动几十米的速度，电流之间密度为10 A/cm-10 A/cm，间电压也降低到20V-40V之间。

　　多弧离子镀膜机的蒸发源是一种比较的冷阴电弧放电的自蒸发、自电离式的一种固体型蒸发源。

　　相较于传统的蒸发源，多弧离子镀膜机的电弧蒸发源的特点明显：

　　1、镀膜膜层致密度高，膜层寿命长、强度高；

　　2、作为固体型的电弧蒸发源，可改变其形状、大小及位置；

　　3、运行真空范围大；

　　4、更高的离子能量；

　　5、可达60％-80％的高离化率；

　　6、高沉积速率，如TiN，可做到100nm/s~1000nm/s的高沉积速率。

　　我们公司一直秉承“以市场为导向，以客户为中心，建立良好的客户服务理念，为客户创造价值"的经营方针，历经市场的长期洗礼，逐步积累了丰富的资源和良好的口碑，被客户广泛的视为值得信赖的战略合作伙伴。