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电子束蒸发镀膜机镀膜在高真空下,电子枪灯丝加热后发射热电子,被加速阳极加速,获得很大的动能轰击到的蒸发材料上,把动能转化成热使蒸发材料加热气化,而实现电子束蒸发镀膜。电子束蒸发源由发射电子的热阴极、电子加速极和作为阳极的镀膜材料组成。电子束蒸发源的能量可高度集中,使镀膜材料局部达到高温而蒸发。通过调节电子束的功率,可以方便的控制镀膜材料的蒸发速率,特别是有利于高熔点以及高纯金属和化合物材料。电子束蒸发镀膜机是在工业中比较常使用的薄膜制造设备,薄膜的产生主要是通过镀膜机中的电子束的加热产生的。
真空镀膜技术在光学工业的应用根据光学性能的要求,需要改变光学镜片表面对光波透射、反射能力。真空镀膜就可以实现此项需求。增透膜:在光学镜片表面镀以低折射率介质,提高光波在镜片表面的通过能力这就是增透膜。根据光学系统在实际使用中 A眼、照相底片、光电器件对透过光波长范围的不同需求。可调整增透光的光度长区域。 反光膜:在镜片表面真空镀以金属或高折射率介质,可提高镜片表面对光波的反射能力。同样,也可根据镜片不同的使用要求,调整反射光波的波长区域及反射能力。
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