蒸发式镀膜设备原理:是在高真空室中利用电阻电加热,将金属镀料熔融、汽化,主要沉积铝膜、铬金属膜、铜膜等易熔金属。漂浮在真空室内的金属分子沉积在基片上,获得光滑的高反射率的金属膜层,达到装饰美化物品表面的目的。
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蒸发式镀不导电膜是在真空室中利用电阻加热法,将紧贴在电阻丝上的金属丝(铟丝、铟锡合金丝)熔融汽化,汽化了的金属分子沉积于基片上,而获得光滑反射率的膜层,达到装饰美化物品表面的目的。应用于塑料电子产品:手机外壳、手机按键、电脑、数码、电子通信等的表面镀制不导电膜(NCVM)。大功率蒸发系统,可控硅控制,重复性、稳定性高,镀透电极设计,配置石英晶振,可控制任何膜层厚度,拥有的工件架技术,转速平稳可调,产量大且良品率高。
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