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宜兴市昊能陶瓷研究所

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氧化铝陶瓷基片 陶瓷片 散热氧化铝陶瓷垫片 生产厂家 价格低廉

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具体成交价以合同协议为准
  • 产品型号:
  • 品牌:
  • 产品类别:电子陶瓷材料
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  • 更新时间:2022-09-30 08:35:56
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宜兴市昊能陶瓷研究所

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  • 经营模式:其他
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  • 联系人:姚先生
产品简介

仟渔https://33462

详情介绍

  多弧离子镀膜机的电弧蒸发源适用范围较广,既可反离子镀,又可蒸镀金属结构材料、合金材料。且由于离子镀具备沉积速度快、镀料适用广、镀层附着粘合性良好、膜致密性高等特点,现在其应用日益广泛,在未来是可能逐渐取代湿式电镀的存在。目前,在电子、化工、轻工、机械、国防、采矿、冶金等诸多行业领域均有涉及。

  所谓多弧离子镀膜机就是用多个电弧蒸发源为核心的一种离子镀膜设备,通常又叫多弧镀膜、弧镀、电弧镀膜等。相较于其他镀膜工艺,它具备的特点有:

  1、机械整体简单、设备生产效率高、工作周期短、适合大批量的工业化生产。

  2、较大的镀膜空间。 电弧蒸发源为固态,可灵活放置,所以工件在装卡更换时更加简单,无需附加加热器使用。

  3、工艺范围广。适合在较高真空或较低环境温度(200C)下做反应镀、离子镀。

  4、具备优异的膜性能。工件的轰击加热、清洁和沉积交由离化金属等离子体轰击完成,实现“一弧三用",且膜层结构致密性高,膜层与镀件牢固结合。

  多弧离子镀膜机的蒸发源是一种比较的冷阴电弧放电的自蒸发、自电离式的一种固体型蒸发源。

  相较于传统的蒸发源,多弧离子镀膜机的电弧蒸发源的特点明显:

  1、镀膜膜层致密度高,膜层寿命长、强度高;

  2、作为固体型的电弧蒸发源,可改变其形状、大小及位置;

  3、运行真空范围大;

  4、更高的离子能量;

  5、可达60%-80%的高离化率;

  6、高沉积速率,如TiN,可做到100nm/s~1000nm/s的高沉积速率。

  多弧离子镀膜机

  用于金属、陶瓷、玻璃等材质表面镀制各种硬质金属膜、金属化合物膜及装饰膜。具有抽速快、真空稳定,装载量大、镀膜均匀性好的特点。广泛应用于手表、眼镜、资讯产品 模具、五金、玻璃、陶瓷、建材等行业表面处理,是镀制TP仿金、TPC、TP浅、TP咖啡色、TP玫瑰、香槟金、千邑色等膜层的理想设备。本机不污染环境,所镀膜层无毒,对人体无害,是解决水电镀厂环境污染问题,替代传统水电镀金,镀烙的理想设备。

  多弧离子镀膜机技术指标

  真空室尺寸:单室,ø1000*1000mm2,有效镀膜空间:ø600*600mm2 抽真空时间:<15min(室温空真空室从大气压抽到4.0*10-3Pa) 限压力:3.0×10-4Pa 工作真空度:10~1.0×10-1Pa 偏压电源:输出功率30kw,输出电压0~1000V,输出占空比调节范围:0~90% 总功率:70KVA,380~400v/220~240v,50~60HZ。

  我们公司一直秉承“以市场为导向,以客户为中心,建立良好的客户服务理念,为客户创造价值"的经营方针,历经市场的长期洗礼,逐步积累了丰富的资源和良好的口碑,被客户广泛的视为值得信赖的战略合作伙伴。

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