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CRF电浆清洗机的控制单元、腔体和真空泵的选择指南
CRF电浆清洗机的控制单元、腔体和真空泵的选择指南:CRF电浆清洗机广泛应用于微观纳米清洗、刻蚀、喷涂、接枝化和表面沉积性等场合。通过其处理,能够改善材料表面的润湿能力,使多种材料能够进行涂覆等作业,...
2022/12/1923 -
FPC柔性电路玻璃基板用诚峰plasma表面清洗表层的污染物
FPC柔性电路玻璃基板用诚峰plasma表面清洗表层的污染物:在LCD面板行业,加工过程中,热压法适用于触控屏、笔记本电脑显示屏等产品与柔性薄膜电路的连接。柔性薄膜电路通过加热和压力直接附着在皮带上L...
2022/12/1961 -
诚峰智造真空等离子设备的日常检查和维保的具体步骤
诚峰智造真空等离子设备的日常检查和维保的具体步骤:平常如何解决日常使用中遇到的这些关于真空等离子设备的问题的呢?,真空等离子设备在进行任何维修或保养之前,所有相关的安全预防措施都应采取,而不限于本使用...
2022/12/1925 -
plasma设备改善TMCS和桦木材表面疏水源自沉积原理
plasma设备改善TMCS和桦木材表面疏水源自沉积原理:木材是除了钢材、混凝土和塑料中可再生的绿色材料和生物资源,具有高强重比、易制作加工、吸音隔热、纹理和色泽质朴自然等特性,被广泛应用于建筑、装饰...
2022/12/1946 -
crf-等离子体表面处理仪催化剂改性方式的分析
crf-等离子体表面处理仪催化剂改性方式的分析:在CO2氧化CH4制C2烃反应,现阶段所采用的活化反应物CH4、CO2的方法有催化活化法和plasma等离子体活化法,介绍下等离子体催化活化法。为便于较...
2022/12/1931 -
CRF诚峰真空等离子设备处理电缆有什么不一样
CRF诚峰真空等离子设备处理电缆有什么不一样:不管是喷枪大气等离子设备还是真空等离子设备,电缆的组成都是的,数据讯号的传送及电源电路的操作,必须依电缆进行。设备中使用的电缆种类很多,其功能也各不相同。...
2022/12/1935 -
深圳市CRF等离子表面处理设备活化概念和生产工艺的沉淀
深圳市CRF等离子表面处理设备活化概念和生产工艺的沉淀:CRF等离子表面处理设备活化环节涵盖了表层清洁、刻蚀、等离子表面涂覆。活化表面处理工艺在诸多行业和领域中都有广泛应用,如精密电子、半导体、汽车制...
2022/12/1923 -
CRF等离子蚀刻机对金刚石发生Raman散射荧光增强的因素探究
CRF等离子蚀刻机对金刚石发生Raman散射荧光增强的因素探究:荧光标记对生物医学生物传感、材料科学等方面都是非常有效的检测手段。罗丹明、荧光素、吖啶、菁等传统的有机荧光染料分子易出现团聚(微米级)不...
2022/12/1922 -
等离子体表面处理仪喷射下丙烷和丁烷的转化等离子的研究
等离子体表面处理仪喷射下丙烷和丁烷的转化等离子的研究:丙烷是天然气、油田气及炼厂气的主要成分。丙烷为饱和烷烃,直接的利用经心济价值低;而丙烯却有着较大的缺口,因此研究丙烷烯烃化是十分必要。我国有丰富的...
2022/12/1921 -
为啥说CRF等离子清洗设备溅射工件表面不会影响其性能
为啥说CRF等离子清洗设备溅射工件表面不会影响其性能:CRF等离子清洗设备溅选用高频电源能够提高工件表面的粘合力,亲水性,通过去除有机污染物,在表面介入极性有机官能团,提高表面亲水性及表面润湿性能,是...
2022/12/1922 -
三大工艺阐述CRF等离子火焰处理机的表面处理工艺
三大工艺阐述CRF等离子火焰处理机的表面处理工艺:表面处理是指在基材表面人工地生成一层与基材具有不一样机械、物理和化学性质的表层。表面处理技术的目的是达到产品耐腐蚀,耐磨损,装饰等特殊性能的要求。那样...
2022/12/1923 -
手机外壳表面清洗工艺等离子体发生器发展趋势
手机外壳表面清洗工艺等离子体发生器发展趋势:随着生活节奏的加速,手机已经成为人们日常生活中的角色。据相关数据统计表示,我国手机的每年产量已经达到1.7亿部,而且其市场规模仍有扩大的趋势。手机市场需求的...
2022/12/1924 -
LCD低温等离子处理机在各大玻璃显示器中的加工应用
LCD低温等离子处理机在各大玻璃显示器中的加工应用:在玻璃基板组装裸IC芯片的过程中,当IC芯片在高温下凝固时,底材涂料的成份附着在键填充材料的表面。有时,银浆和别的黏合剂会溢出并污染黏合剂填充料。在...
2022/12/1923 -
H2或Ar低温等离子机器清洗对石墨烯有其的优势
H2或Ar低温等离子机器清洗对石墨烯有其的优势:经H2或Ar低温等离子机器清洗后,氧化石墨烯悬浊液由液态变为固体,与此同时颜色深浅表明氧化石墨烯被有些还原。h2和氩气等离子体处理后试样低倍和高倍扫描电...
2022/12/1941 -
LED封装和引线键合前采用CRF真空等离子清洗机的缘由
LED封装和引线键合前采用CRF真空等离子清洗机的缘由:在LED在包装过程中,有机污染物、氧化层附件表面的有机污染物、氧化层等污染物进行表面处理,否则会影响整体LED包装成品率。因此,为了保证整个工艺...
2022/12/1934 -
H2、N2、O2、CF4和Ar是常见的几种等离子设备的气源
H2、N2、O2、CF4和Ar是常见的几种等离子设备的气源:我们常用的工作气体有氢气(H2),氮气(N2),氧气(O2),氩气(Ar),甲烷(CF4)等等。金属、半导体、氧化物和大多数聚合物材料,如聚...
2022/12/1934 -
等离子火焰处理机在加工的导线框架和键合中的应用
等离子火焰处理机在加工的导线框架和键合中的应用:一、等离子火焰处理机加工的导线框架包装中的引线框架微电子器件仍占80%以上。我们主要以铜合金材料为引线,具有传热性。导电性高,制造工艺性能优异。铜组件中...
2022/12/1921 -
晶圆表面微小污染物可以是纳米颗粒大小用plasma清洗有
晶圆表面微小污染物可以是纳米颗粒大小用plasma清洗有:随着产品的升级迭代更新,LED行业对环保和性能的要求也越来越高。LED在行业内,晶圆是整个行业LED去除晶圆光刻胶的重要组成部分是LED整个部...
2022/12/1930 -
plasma光催化的材质是由贵金属纳米颗粒和半导体材料构成的
plasma光催化的材质是由贵金属纳米颗粒和半导体材料构成的:石墨材料相氮化碳(g-C3N4)作为一项无金属能见光催化剂,鉴于其的结构和性能,在太阳能转换和环境治理领域引起了广泛的关注。但单一的g-C...
2022/12/1953 -
低温等离子体发生器
CRF低温等离子体发生器微电子制造产线上对微观污染颗粒清洗:在微电子工业中,清洁是一个广泛的概念,它包括了所有与污染物清除相关的过程。一般是指在不破坏数据表面特性和电特性的前提下,有效地清除数据表面残...
2022/12/1948