JUMO聚膜新材料科技 阳极层离子源
精密光学特点及应用
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数百种镀膜设计，涵盖120nm到20μm；
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UV、可见光、NIR、SWIR和LWIR光谱范围；
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单层和多层增透、滤光、偏振和金属设计；
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适用于光学镜片、眼镜、数码电子、手机、光通信、人脸识别等产品的滤光片、截止膜、带通、高反膜、增透膜等。
阳极层离子源
阳极层离子源应用广泛，在各种镀膜系统中均均有
应用，其主要功能：
1、基片清洗：清洗基片表面污染物、基材表面活
化增加膜基结合力、减少基底缺陷、增加基片表面
能、携氧量等。
2、辅助沉积：对工作气体进行离化，作为磁控溅
射过程中的离子辅助沉积，同时提高膜层粒子在表
面的迁移、扩散能力，有利于形成凝聚力更高的致
密的膜层组织。
3、离化沉积：在一些特别的场合可以直接沉积
DLC和光学膜、氧化物、氮化物等。
JUMO离子源全部自主研发设计制造，集成国际技
术升级国产化，特点如下：
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散束和聚束可选设计，满足不同工艺应用
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工作压力范围宽，辅助沉积条件不限
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高稳定性能，对基片污染小
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高离子能量，输出能量可控
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