URE-2000/A12大面积自动光刻机
(1)曝光面积：300mm×300mm可兼容；

（2）分辨力：2μm；

（3）对准精度：±2μm；

（4）掩模尺寸：7英寸、9英寸、13英寸；

（5）样片尺寸：6英寸、8英寸、12英寸；

（6）wafer chuck表面：防止光反射涂层；

（7）掩模样片整体运动范围：X：10mm;Y:10mm；

（8）掩模相对于样片运动行程：X:±5mm; Y:±5mm; θ: ±6°；

（9）汞灯功率：1000W（直流）；

（10）曝光能量密度：≥ 10mW/cm；

（11）曝光峰值波长:365nm；

（12）光源平行度：＜2°；

（13）曝光方式：定时（倒计时方式0.1s—9999.9s）；

（14）光刻版夹具兼容性；

应用领域

集成电路芯片、电子封装、微电子机械系统、微光学元件、红外探测器生物电泳芯片、激光二极管光刻、光栅光刻，波导阵列光刻、液晶显示声表器件、平板显示器、大尺寸光栅、码盘刻划等。