钛靶材，钛元素符号 Ti ，原子序数 22 ，密度 4.454g/Cm3 ，物理性质：熔点 1668℃，沸点 3262℃，比热容 0.52（J /(Kg·K) ，蒸发热 421（KJ/Mol），熔化热 15.45（KJ/Mol），导电率 0.0234（106/Cm） 。由于高纯钛的成本相当昂贵，应用领域极其有限，主要用作半导体材料和超高真空装置中的吸气材料。高纯钛具有吸气性，特别是吸氢、CH4、Co2气体，因此它能在高真空和超高真空系统中获得广泛应用。用高纯钛溅射制作LSI、VLSI、ULSI的线路网时，可使这些集成件变得格外轻、薄、尺寸小而且线路密集。高纯钛靶材也可以用作阻挡层金属材料
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一、我司的优势产品有：
1）单质金属靶材：Ni、Co、Cu、Fe、V、Ti、Al、Zn、Sn、Zr、Hf等有色金属；
2）合金靶材：Ni基合金、Co基合金、Cu基合金、Fe基合金、Zn基合金、Al基合金，如NiCr、NiV、NiFe、NiCo、CuNi、CuNiTi、CuNiMn、CoFe、CoTaZr、ZnSn、ZnAl、AlCu、AlSi等；
3）蒸镀材料：4N-4N5 Ni、4N-4N5 Ti、4N-5N Al、3N-3N5 V、3N8 Co、4N-5N Cu；
4）背板材料：无氧铜背板、钛背板
二、主要生产设备有：真空电子束炉、真空感应熔炼炉、锻机、轧机、油压机、真空退火炉、数控车床、数控铣床、加工中心、磨床、线切割、数控水切割、XRF、ICP-OES、金相检测仪等。
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