铜靶材我们可生产纯度99.9%~99.9999%的各种纯度及要求的铜靶，其中氧含量可以达到<1ppm，主要用于显示屏及触摸屏配线及其保护膜，太阳能光吸收层、半导体配线等行业。除了满足客户平面靶（大G8.5代）的需求，我们还可以生产铜的旋转靶，主要用于触摸屏行业。高纯铜靶材的晶粒很难打碎，我们只有通过超大变形量加工，控制栾晶的生长，以取得细小均匀的微观组织，从而可确保溅射镀膜时能获得较低侵蚀速率，并且降低溅射过程中颗粒的形成敏感度。下图是铜溅射靶材的两种典型的显微金相检测图片，平均粒径<50um。
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