PICOSUN™R-200标准型ALD系统是ALD科研  设备市场的。它已经成为一些创新公司 和研究机构的研发工具。

灵活的设计确保沉积高质量的ALD薄膜，超灵活的系统配置也能满足用户未来的需求和应用。的热壁设计、独立的前驱体管 路和特殊的载气设计，使得无颗粒沉积广泛应用于平面晶圆、3D基片和所有纳米尺度的  材料。即使在挑战性的多孔材料、超高深 宽比和纳米颗粒表面沉积， 系统都能实现的均匀性， 这些都归功于我们的技术  Picoflow™。Picosun™R-200标准型系统配备功 能强大和易于更换的液体、气体和固体前驱体 源。系统可集成手套箱， 粉末反应腔和各种在 线分析系统， 使您的研究变得高效和灵活。 即 使将来您改变研究领域， 它仍然会是您帮手！

技术参数：

衬底尺寸和类型

•   50-200 mm/片

•   156 mm x 156 mm太阳能硅片

•   3D 复杂表面衬底

•   粉末与颗粒

•    小批量

•    多孔， 通孔， 高深宽比（HAR）样品 （可达1:2500）

工艺温度

•    50 – 500°C

沉积材料

•    Al2O3, TiO2, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, ZrO2, AlN, TiN, 以及金属 Pt 或者 Ir

基片加载

•    气动升降，手动加载

•    预真空室安装磁力操作机械手（Load lock）

前驱体

•    液态， 固态， 气态， 臭氧源

•    4根独立源管线， 最多加载6个前驱体源

选件

•     PICOFLOW™扩散增强器， RGA、N2发生器、尾气处理器、定制设计，手套箱集成（用于惰性气体下装载）