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当前位置:太仓希德机械科技有限公司>>真空均质机>> GP-50L实验室真空乳化均质罐

实验室真空乳化均质罐

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参  考  价:面议
具体成交价以合同协议为准
  • 产品型号:GP-50L
  • 品牌:
  • 产品类别:乳化机
  • 所在地:
  • 信息完整度:
  • 样本:
  • 更新时间:2024-02-07 12:40:51
  • 浏览次数:3
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太仓希德机械科技有限公司

其他

  • 经营模式:其他
  • 商铺产品:813条
  • 所在地区:
  • 注册时间:2018-06-30
  • 最近登录:2024-02-06
  • 联系人:陆经理
产品简介

实验室真空乳化均质罐真空度可达-0.09Mpa,可在乳化过程中瞬间起到除泡作用。物料工作温度为0~100℃,需要配置加热系统稳定,温差波动较小,也就是恒温系统,温度可以设定,乳化后的物料状态必须达到混合均匀,均质乳化不能分层。

详情介绍
品牌SID/希德产地进口
产品新旧全新产品大小中型
自动化程度全自动装置方式固定式
物料类型液-液,固-液,固体颗粒,干粉,膏体,干粉-膏体动力类型柴油,气动,电动,磁力
速度类别单速,双速,有级变速(多速),无级变速净量1000
功率4KW外形尺寸350*550*950

一、产品名称关键词:实验室真空乳化均质罐,实验室制剂用哪种乳化设备,太仓希德真空均质乳化罐,多功能成套系统

二、乳化方式

乳化方式分为间歇式乳化和在线式乳化,所用的均质设备是用的不同的结构构造,也就分为间歇式乳化机和管线式乳化机,管线式的处理方式是在线式均质,每一道工序都经过工作腔体内,经过三级的高剪切均质,再由出料口进入罐内,由于管线式的本身就是一个泵体的形式,会有一定的吸料作用,进行循环处理。

三、均质乳化程度的一些要求

罐内必须达到,真空度可达-0.09Mpa,可在乳化过程中瞬间起到除泡作用。物料工作温度为0~100℃,需要配置加热系统稳定,温差波动较小,也就是恒温系统,温度可以设定,乳化后的物料状态必须达到混合均匀,均质乳化不能分层。

四、管线式真空均质乳化系统构造及特点

太仓希德的整个真空乳化系统由乳化罐(罐体可升降锅盖、翻转式锅体)、管线式三级乳化机、多功能搅拌装置 、水相罐、油相罐、真空装置、加热及温度控系统、冷却系统、PLC电器控制系统等组成。满足自动化、温控设定、真空处理无气泡,多重搅拌装置带聚四氟乙烯刮板,混合均匀,、管线式超高速三级乳化机(变频可达18000rpm)。

五、高剪切真空均质乳化系统工作原理

希德机械的乳化罐采用盖为自动升降式,水罐、油罐中的物料通过输送管道可在真空状态下直接吸入乳化罐,出料方式为乳化罐罐体翻转可倾式,通过电热管对罐夹层内的导热介质进行加热来实现对物料的加温,加热温度任意设定,自动控制。在夹层内接入冷却水即可对物料进行冷却,操作简单、方便,夹层外设有保温层。低速搅拌器是由中间的折叶桨式搅拌器与能混合高粘度的框式搅拌器组成,在框式搅拌器的周边装有刮壁的聚四氟乙烯刮板,刮板的作用是使容器内壁与物料不断产生新的界面而不再留有任何死角。设备运行时能够使物料不断产生新的界面,产生切割、压缩、折叠湍流等作用,从而使物料*流向高剪切三级乳化机。使物料在定转子狭窄的间隙中,每分钟承受几十万次的液力剪切、、挤压、混合、喷射、高频震荡等综合作用,迅速破碎成200nm-1um的微粒,由于乳化内处于真空状态,物料在搅拌过程中产生的气泡被及时抽走。,经过高频的循环往复,终使整个容器内的物料由上而下不断循环进行混合、分散、均质、乳化,得到无气泡细腻及稳定的高品质产品。物料微粒化、乳化、混合、调匀、分散等可于短时间内完成。与物料接触部位采用优质不锈钢(科研采用316L材料制造,内表面镜面抛光,真空搅拌装置卫生清洁,采用符合GMP规范的卫生标准制造。

六、多功能真空均质乳化系统设备参数

多功能真空乳化机

GP10

GP25

GP50

GP100

GP200

GP500

GP1000

GP2000

混合容器

13

32

65

130

260

650

1.350

2.600

可使用容积

10

25

50

100

200

500

1.000

2.000

容器中的工作压力(Mpa)

-0.09

-0.09

-0.09

-0.09

-0.09

-0.09

-0.09

-0.09

容器中的MAX温度(°C)

150

150

150

150

150

150

150

150

螺旋搅拌器

功率(KW)

0,18

0,37

0,55

0,75

1,1

1,5

3

4

搅拌速度(rpm)

120

75

55

44

36

27

21

17

管线式均质机

型号

2000/4

2000/5

2000/10

转速(rpm)

18000

18000

18000

10500

10500

10500

7200

7200

PLC电子控制

透过在控制柜中操作设备.

高度大约 mm a

945

1.075

1.360

1.550

1.900

2.420

2.870

b

1.650

1.380

1.550

1.800

2.150

2.790

3.370

4.100

c

2.000

1.860

2.000

2.500

3.150

4.200

4.970

6.100

宽度大约 mm

630

750

750

1.150

1.150

1.700

1.700

2.500

深度大约 mm

650

920

920

1.300

1.300

2.000

2.000

2.800

实验室真空乳化均质罐

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