HiPIMS设备产品介绍：
高功率离子源在高离子电流密度下在更大面积上实现均匀、更大的离子沉积分布。
不同金属、合金和氧化物的混合溅射，膜层均匀。
全自动控制系统，防腐能力
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HiPIMS设备产品介绍：高功率离子源在高离子电流密度下在更大面积上实现均匀、更大的离子沉积分布
HiPIMS设备产品介绍：
高功率离子源在高离子电流密度下在更大面积上实现均匀、更大的离子沉积分布。
不同金属、合金和氧化物的混合溅射，膜层均匀。
全自动控制系统，防腐能力
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