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引言正如前文“双极HiPIMS调控薄膜生长过程中的离子能量”中我们讲到对于HiPIMS放电在负向脉冲放电完成后加一定正向脉冲，可以提高HiPIMS放电后的等离子体电势，从而加速到达基底的离子的能量，提...

引言HiPIMS电源在高致密性硬质涂层中有很好工业化利用，但是光学应用中的案例还不多，本文将介绍HiPIMS反应溅射模式下的特性。点睛在反应溅射中，DCMS存在靶面中毒现象，MF溅射虽然能一定程度解决...

引言HiPIMS由于高峰值电流及其高离化率，可以得到性能优异的致密膜层，伴随而来的HiPIMS溅射速率也会相对更低，本文将分析HiPIMS溅射速度低的原因及可能的改进方法。点睛1)HiPIMS溅射速率...

引言金属制品是生活中的，大到轮船飞机，小到铁钉螺丝。现代工业的发展，是以金属为骨骼，但是金属在使用过程中极易腐蚀。防腐蚀工艺有很多种，真空镀膜就是其一。使用PVD技术在表面镀一层耐腐蚀膜层，对平面或者...

引言因磁场约束，以及超高功率放电，高功率脉冲磁控溅射技术（HiPIMS）在放电过程中会存在局部放电增强而导致辉光闪烁的不稳定现象。当不稳定辉光存在时，其放电状态也有很大差异，辉光会形成不同的放电组织和...

HMDSO制备C：SiOX膜层具有优异的耐腐蚀性能，上篇讲到HMDSO/O2比例对膜层成分，耐腐蚀性能与硬度影响。在整个镀膜过程中，偏压也是影响HMDSO制备的C：SiOX膜层性能的因素之一。A.J....

引言管筒内表面处理的方式采用的是电镀方法，但电解液污染环境。后来采用真空镀膜方法来处理管状构件内表面，包括化学气相沉积(ChemicalVaporDeposition，CVD)和物理气相沉积(Phys...

引言HiPIMS电源属于脉冲电源的一种，通过降低占空比到低于10%，在相同功率情况下，可以使得磁控溅射峰值电流三个数量级的增加，本文将介绍脉冲波形对于辉光放电特性的影响，为控制不同靶材辉光特性及工艺优...

引言在Si靶和Ta靶氧反应溅射时，用合适的HiPIMS脉冲参数可以抑制进气迟滞回线，在没有气体控制器下也能保证工艺稳定性。点睛通过HiPIMS反应溅射制备SiO2-Ta2O5光学干涉膜，并和RFMS制...

在DLC膜层制备的过程中，都会使用到烃类的前驱体气体，而不同的前驱体对膜层的性能有着不同的影响。通过评估一系列烃类前驱体在膜层的硬度、结合力和沉积速率的影响。得到膜层硬度从乙炔的平均15GPa提高到丁...

类金刚石碳(DLC)涂层具有高耐磨性、摩擦系数极低、耐腐蚀性高的优良性能。由于这些优良的性能，DLC涂层在石油天然气、半导体、医疗和汽车等行业中引起了广泛的关注。在石油和天然气行业，DLC涂层尤其能改...

引言高功率脉冲磁控溅射技术（HiPIMS）因磁场约束放电，其靶材附近的放电形式变化多样。放电的不稳定性，等离子体均匀性，等离子体的磁约束情况都是非常值得研究的内容，如等离子体局部离化，电子逃逸等导致的...

阳极层离子源由于其简单性和将气体转变为离子束的能力而被广泛研究，其主要功能是在使用期间360°范围内连续产生离子束。通过简单地沿着直管或弯管牵引离子源就可以实现管道内壁涂层的制备。利用传统的物理气相沉...

我们都知道纳米颗粒由于具有大的表面能，拥有自聚集效应。在一个平坦的表面，表面堆积一层纳米颗粒，随着温度的上升，一般可能会出现纳米颗粒之间的聚集和相互作用。而后才与平坦表面发生作用。经典测试表明，金属之...

脉冲磁控溅射是采用矩形波电压的脉冲电源代替传统直流电源进行磁控溅射沉积。脉冲磁控溅射技术可以有效的抑制电弧产生进而消除由此产生的薄膜缺陷，同时可以提高溅射沉积速率，降低沉积温度等一系列显著优点。脉冲可...

自1852年，格洛夫发现阴极溅射现象，对于溅射技术的运用便逐步发展起来，从上世纪80年代至今，磁控溅射技术在表面工程领域占据举足轻重的地位。磁控溅射技术可制备超硬膜、耐腐蚀摩擦薄膜、超导薄膜、磁性薄膜...

真空蒸镀法与溅射镀膜技术不同区别的介绍一、真空蒸镀法真空蒸镀是将装有基片的真空室抽成真空,然后加热被蒸发的镀料,使其原子或分子从表面气化逸出,形成蒸气流,入射到基片表面,凝结形成固体薄膜的技术.根据蒸...

真空镀膜是一种常见的表面处理工艺，常用于制造光学镜片、太阳能电池板、LED等产品。其主要流程包括以下几个步骤：1.基材清洗：将待处理的基材表面进行清洗，以去除表面的油污、灰尘等杂质，确保表面干净。2....

HiPIMS-400是新铂科技针对高校镀膜实验需求设计的一款高功率脉冲磁控溅射电源。可以实现脉冲+直流的组合输出。这款电源具有如下优势：完整可控&可视化调节的参数1.可视化脉冲参数调节高达7项个性化参...

-引言-多层薄膜能显著改善复杂环境下部件的性能和寿命，为获得性能良好的膜层，研发团队提出了一种高引燃脉冲新HiPIMS放电技术。增加引燃脉冲的个数，强化了膜层的结合力，硬度以及摩擦磨损的性能。-点睛-...