多弧离子镀膜机行业虽然为制造业，但是对于技术的开发和创新需求较高，人力资本对多弧离子镀膜机企业的经营发展影响深远。随着城市生活成本快速上升，社会平均工资逐年递增，具有丰富业务经验和素质的中人才工资薪酬呈上升趋势，导致未来行业内企业将面临人力成本上升利润水平下降的风险。

　　多弧离子镀膜机的电弧蒸发源原理是通过一个冷阴自持电弧放电，是一种场致发射。蒸发源的典型的基本配置为：受镀基材与阴相接，阳接真空室，待真空室抽到到高些的真空状态、触发电启动器接触打开，形成一个稳定的电弧放电于阳和阴之间。而在阴的表面覆盖有很多快速移动的阴斑，斑直径在1μm到两微米之间，还有直径约10μm的光斑，有每秒移动几十米的速度，电流之间密度为10 A/cm-10 A/cm，间电压也降低到20V-40V之间。

　　多弧离子镀膜机

　　用于金属、陶瓷、玻璃等材质表面镀制各种硬质金属膜、金属化合物膜及装饰膜。具有抽速快、真空稳定，装载量大、镀膜均匀性好的特点。广泛应用于手表、眼镜、资讯产品 模具、五金、玻璃、陶瓷、建材等行业表面处理，是镀制TP仿金、TPC、TP浅、TP咖啡色、TP玫瑰、香槟金、千邑色等膜层的理想设备。本机不污染环境，所镀膜层无毒，对人体无害，是解决水电镀厂环境污染问题，替代传统水电镀金，镀烙的理想设备。

　　多弧离子镀膜机与磁控溅射镀膜机的区别

　　多弧离子镀膜机通过向弧靶通大电流，通过引弧针引弧，在靶表面产生电弧，电弧温度很高，融化靶材，通过在产品上加偏压，被融化的靶材沉积在产品上。

　　磁控溅射镀膜机，通过氩离子轰击靶材，把靶材溅射到产品上形成镀膜，磁控是通过磁场约束氩离子多次轰击靶材提率。

　　现在国产机器都是二合一的，两种功能都具备。

　　多弧离子镀膜机技术指标

　　真空室尺寸:单室,ø1000*1000mm2，有效镀膜空间：ø600*600mm2 抽真空时间：＜15min（室温空真空室从大气压抽到4.0*10-3Pa） 限压力:3.0×10-4Pa 工作真空度:10~1.0×10-1Pa 偏压电源：输出功率30kw，输出电压0~1000V，输出占空比调节范围：0~90% 总功率：70KVA，380~400v/220~240v,50~60HZ。

　　我们公司一直秉承“以市场为导向，以客户为中心，建立良好的客户服务理念，为客户创造价值"的经营方针，历经市场的长期洗礼，逐步积累了丰富的资源和良好的口碑，被客户广泛的视为值得信赖的战略合作伙伴。