镀层膜厚仪是一种专业测量仪器，它的主要作用是用来测量各种材料表面的膜厚，包括但不限于金属、非金属、有机物等。这种工具对于一些需要严格控制膜层厚度的制造工艺很重要，例如电子、半导体、航空航天等行业，因为它能够确保生产过程中的质量和稳定性。
X射线镀层膜厚仪可进行未知标样扫描、无标样定性，半定量分析，运行及维护成本低、无易损易耗品，对使用环境相对要求低。可针对客户个性化要求量身定做辅助分析配置硬件。
镀层膜厚仪的具体功能包括：测量材料表面的厚度、检测其中的缺陷、分析膜层的成分和结构等。这些功能对于生产制造而言都很关键。通常来说，这种仪器采用光学、电磁、电子等不同的测量原理，每种原理都有各自的优缺点和适用范围。因此，使用时也要根据具体的材料、厚度和需要掌握的信息来选择合适的测量原理和仪器。
镀层膜厚仪利用了光的波动性质以及薄膜的光学特性，在材料表面上形成干涉效应。
通过测量干涉光强的变化，可以推导出薄膜的厚度信息。镀层膜厚仪主要由光源、分束器、反射镜、检测器等组件组成。当光源照射到材料表面上时，一部分光线被反射，一部分光线穿透材料并与反射光线发生干涉。
根据光的干涉现象，当两束光线相遇时，如果它们的光程差为整数倍的波长，干涉叠加会增强光强；
如果光程差为半波长的奇数倍，干涉叠加会导致光强削弱。
通过调节镀层膜厚仪中的光程差，可以实现对干涉光强的控制和观测。
