光学膜涂布机的要求与其他光学膜涂布生产线类似，要求制造精密、控制准确。文章简要介绍了光学膜的市场概况、结构，对光学膜涂布主要生产流程及结构组成进行了详细阐述，并对如何降低光学膜涂布机的投资成本及设备国产化提出了相关观点。

电晕装置

电晕装置的使用是根据需要对涂布的一面进行表面电击处理，使其具有更高的附着性。其原理是利用高频率高电压在被处理的塑料表面电晕放电，而产生低温等离子体，使塑料表面产生游离基反应从而使聚合物发生交联、表面变粗糙并增加其对极性溶剂的润湿性和附着能力。

涂布头

涂布头是整个涂布生产线的核心，目前光学膜涂布主要有COMMA KNIFE（逗号式刮刀）与SLOT DIE（狭缝式模头挤出涂布）两种形式。

COMMA KNIFE适合的涂布厚度为18～100μm，涂布液粘度较高，其突出的优点是改变涂布宽度比较容易，另供胶系统也相对简单。但存在涂布液大面积暴露的问题，因此必须保证涂布头的洁净度。

SLOT DIE狭缝式涂布是一种预计量的涂布方式，就是说涂布量取决于输入涂布液量与基材运行速度之比，可预先精确设定。通常都采用高精度无脉冲计量泵来输送涂布液量。SLOT DIE涂布可分为背辊直接接触和基材张力控制两种方式，光学膜涂布采用背辊直接接触式为主。这种涂布厚度范围较宽，约为3～300μm，可满足不同的使用要求，适合生产速度从低到高均可。其涂布精度受背辊本身的平直度以及轴承的跳动影响，由于涂布间隙很小，对基材厚度变化及表面异物影响非常敏感。生产过程中更换涂布液品种时内部清洁比较困难，需用溶剂反复清洗。

两种涂布头涂层干后厚度误差均可控制在1μm以内。其中SLOT DIE狭缝式涂布机精度更高，造价昂贵，并需配置完善的供胶系统。