在线氩气中痕量N2分析仪基于我们的增强等离子体放电（EPD）技术。与其他商用等离子技术相比，结合了我们独特的聚焦/稳定和电子注入电极和光谱补偿技术。这些独特的技术解决了由于流量和压力变化引起的基线波动问题以及淬灭分子（如H2O） 对测量的影响，从而大大减少了漂移和噪声。

    个方法是通过提高电离效率来适当控制等离子体中的能量。 这是通过我们的聚焦/稳定和电子注入电极来实现的。 这解决了其他等离子技术仍受困扰的淬灭问题。

    第二个方法使用光谱补偿模式。 这由我们专有的嵌入式算法控制器控制，对用户透明。 流量和环境压力变化都会导致传统等离子体发射技术的测量误差。 这是由于等离子体中的功率分布的变化。 我们专有的嵌入式算法通过不断调整功率分布并因此补偿Bremsstrahlung（等离子基体发射）波动来克服该问题。 结果是消除了来自流量和压力对等离子基体发射的影响。