采用蒸发方式在衬底上蒸镀微米级厚度的高质量铟柱，是实现高密度三维互连工艺的关键设备。

铟蒸镀系统由工艺腔室、真空系统、电阻 发源系统、样品台系统、膜厚系统、离子源系统以及控制系统等组成。

样品尺寸：≤200mm；

薄膜膜厚不均匀性：≤±5%；薄膜膜厚重复性≤±3%；

极限真空度：优于1E- 7Torr；

恢复抽真空时间：从大气~5E-6Torr小于30分钟；

系统漏率： 发室空气泄漏率不大于 5E-5Torr.L/s；

样品台转速可调，具有冷却功能，温度范围-70℃至200℃；

集成一个 冷衬板组合，位于样品台垂直下方；

可进行在线膜厚测量，晶振膜厚控制仪集成于系统PLC，可用于蒸发源和挡板

的自动操作，能精确的进行过程控制。

工艺腔体采用铝合金或不锈钢；高度900毫米至1200毫米，内径650毫米至700毫米，

保证蒸发镀膜入射角度；

配置一套功率≥6KW的专用蒸发源，带流量感应探头的冷却水回路，提供一套阴极离子源，用于样品前处理；

以上就是今日小编为大家介绍的蒸铟设备。

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