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氰化电镀黄铜溶液分析方法 第2部分: 电位滴定法测定(游离)的含量

2026年05月23日 08:55:20      来源:可睦电子(上海)商贸有限公司 >> 进入该公司展台      阅读量:5

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HB/Z 5095.2-2004 氰化电镀黄铜溶液分析方法 第2部分: 电位滴定法测定(游离)的含量

范围
本部分规定了采用电位滴定法测定氰化电镀黄铜溶液中(游离)含量的原理、试剂、仪器、分析步骤及分析结果的计算。
本部分适用于氰化电镀黄铜溶液中(游离)含量的测定。
测量范围: 10g/L~25g/L。

原理
试验溶液中,以铜氰络离子、锌氰络离子和游离氰根等形式存在。加入氨水,使锌氰络离子解离释放出氰根离子。以银电极为指示电极,双盐桥型饱和甘汞电极为参比电极,用标准滴定溶液进行电位滴定,测定游离氰根和锌氰络离子解离释放出的氰根之和,用减量法求得游离氰根。

仪器
银电极。
双盐桥型饱和甘汞电极: 外盐桥充满硝酸钾或饱和溶液。
自动电位滴定仪或酸度计: 具有10mV或0.1pH单位的精确度。
磁力搅拌器。

分析步骤
量取5.00mL试验溶液于200mL烧杯中,加90mL水、5mL氨水。在中速搅拌下浸泡电极3min,用标准滴定溶液进行电位滴定,以滴定曲线的突跃确定滴定终点。


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