● 的原料推进系统可在真空或气氛保护环境下同时/依次推进3种原料进入到管式炉中（并可实时监测其温度），温度可控型原位蒸发枪，温度可达1350℃，适合用HPCVD法生长多层膜。
● 炉体为三温区开启式管式炉，由三个独立的温控系统控制每个温区，其控温精度可达±0.1℃ 。
● 双层壳体结构，并带有风冷系统，保证炉体表面温度低于60℃ 。
● 采用氧化铝纤维作为炉膛材料，表面涂有高温氧化铝涂层，可提高加热效率，和延长使用寿命 。
● 炉体开启式设计，便于跟换炉管，并且带有开启断电功能，保证操作安全。

● 单相208~240VAC
● 功率9KW（需60A的空气开关）

● 三个加热区，每个加热区长度：300mm
● 总加热区长度：900mm

恒温区长度：625mm(±2℃）

● 工作温度：1200℃（<1hr）
●连续工作温度：100~1100℃

≤ 10°C /min

● 的原料推进系统可在真空或气氛保护环境下同时/依次推进3种原料进入到管式炉中（并可实时监测其温度），利用推送系统可将3个不同蒸发源同时/依次送入3个独立的小石英管中，精确地找到所需温度，保证实验精确性和重复性
● 蒸发枪：采用钨线圈加热，氧化铝坩埚装料，其温度可达1350℃，控温精度±1℃

● 坩埚的移动速度和移动距离通过步进电机驱动，可设定控制
● 移动距离: 530mm （精度1mm）

● 特殊设计样品台，带有手动遮挡板，放置原料交替试导致所制备样品污染
● 可手动调节样品台在炉管中的位置
● 可选择水平样品台，或倾斜式样品台

● 三个温区由三个独立的温控系统控制，采用PID方式调节温度，可设置30段升降温程序
● 欧陆仪表控制，控温精度可达±0.1℃
● 带有超温和断偶报警
● 三个K型热偶（每个温区1个）

● 炉管，采用高纯石英管，尺寸为Φ130（外）mm×Φ122（内）mm×1200mm（长）
● 配有2个氧化铝管堵，防止热辐射（加热前管堵必须放入到炉管内）
● 可选购石英管堵，保证反应环境洁净

● 防腐型复合真空计（皮拉尼和隔膜规）
● 测量范围：3.8E-5 ~ 1125 torr

● 真空度：10E-2 torr（采用机械泵），10-E5 torr(采用分子泵)

可在本公司选用各种真空泵

配有4通道气体流量控制系统，采用触摸屏设定参数

设备采用水冷不锈钢密封法兰，所以配有循环水冷机

4000×600×1500m

名称：一种小型热等静压炉装置
编号：ZL-2015-1-0417026.0
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● CE认证
● 所有电器元件（≧24V）都通过了UL/MET/CSA认证