这款小型PECVD,其腔体为 3" dia x 16" L的石英腔体,而且加热圈在石英腔体内部对样品进行加热,此系统配有2通道混气系统和双旋机械泵。整套仪器都按放在一个移动架上,以便于实验操作。等离子腔体内部的温度可以达到400℃,采用程序化控温。此款小型廉价的PECVD系统对于薄膜生长和纳米线的制作是一款很好的选择。
性能指标和基本配置 | |
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等离子源 | ● 等离子体射频电源:110V 或220VAC, 50/60 Hz, < 100W |
滑动法兰 | ● 有一滑轨法兰安装于移动架上,以便于样品的放入和取出。 |
加热圈和温控系统 | ● 加热圈尺寸:50mm OD x 40mm ID x 70mm,可使样品达到的温度为400℃ |
两通道混气系统 | ● 混气箱上安装有两个浮子流量计,其量程为10-100SCCM |
真空和气体接口 | 标准的真空配置有 : |
真空泵 | ● 仪器中配有一双旋机械真空泵,其抽气速率为120L/min。 |
移动架 | 设备中配有一 600L x 600W x 600H(mm)的移动架,整个CVD系统可以安置于其上面 |
仪器尺寸 | ● 等离子源: 8.5" H x 10" W x 8" D |
重量 | 70 lb (包含真空泵) |
质量认证 | CE Certified |
保修期 | 一年保修,终身技术支持。 特别提示: 1.耗材部分如加热元件,石英管,样品坩埚等不包含在内。 2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内。 点击查看售后服务承诺书。 |
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