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OTF-1200X-50-PE-SL 小型滑动PECVD管式炉系统

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参  考  价:面议
具体成交价以合同协议为准
  • 产品型号:
  • 品牌:
  • 产品类别:实验仪器
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  • 更新时间:2023-02-26 12:24:15
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产品简介

OTF-1200X-50-PE-SL是一款小型的PECVD(PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition),滑动式开启式管式炉系统

详情介绍

OTF-1200X-50-PE-SL是一款小型的PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition),滑动式开启式管式炉系统。此套设备带有300W的等离子射频电源,一个炉管直径为50mm的开启式管式炉(带有真空法兰和连接管道)和机械泵组成。因此这套设备模型可以更新为不同的PECVD 系统。对于有限的经费的情况下来进行材料探索,此套系统极为理想。

性能指标和基本配置
特点

● 与普通CVD相比可以在低温环境下进行气相沉积实验
● 可以通过炉体滑动达到快速升温和降温
● 对于薄膜的应力可以通过射频电源的频率来进行控制
● 通过工艺调节来控制化学计量
● 可以沉积各种材料,如SiOx, SiNx, SiOxNy 和(a-Si:H) 等.

开启式管式炉

● 输入电源: 208 – 240V AC,功率: 1.2kW
● 工作温度1200°C,小于60分钟
● 炉膛保温材料采用高纯氧化铝多晶纤维,并且内炉膛表面涂有美国进口的高温氧化铝涂层,可以提高加热效率,反射率及延长仪器的使用寿命(点击文字了解涂层的详细参数)
● 连续工作温度1100°C
● 炉管采用高纯石英管:50mmOD x 44mmID x 1000mm L
● 可设置30段升降温程序,并且带有过热和断偶保护功能
● 加热区长度:200mm 单温区.
以下图片显示加热区的温度曲线图
1

等离子体射频电源

● 输出功率: 5 -300W 可调 稳定性± 1%
● 射频电源频率: 13.56 MHz 稳定性±0.005%
● 反向功率: 200W
● 匹配:自动
● 射频电源电子输出端口: 50 Ω, N型半导体, 阴极
● 噪音: <50 dB.
● 冷却:风冷
● 电源: 208-240VAC, 50/60Hz

真空法兰和接头

● 真空法兰采用 304不锈钢制作.
● 左端法兰上安装有 KF-25真空接口,2个KF-25快速卸装卡箍,KF-25直角阀,KF-25真空波纹管和1/4软管接头和不锈钢针阀

真空泵及水冷机

● AC 220V 50 Hz 1/2HP 375W
● 2 Liter /S
● 出气端安装有油雾过滤器(防止油雾扩散到空气中,保护环境和人体健康)
● 真空度: 10-2 torr
可选水冷机:
1

外形尺寸

1500mm x 600mm x 1200mm ( L x W x H)

净重

160kg

应用注意事项 ●炉管内气压不可高于0.02MPa
●由于气瓶内部气压较高,所以向炉管内通入气体时,气瓶上必须安装减压阀,建议在本公司选购减压阀,本公司减压阀量程为0.01MPa-0.1MPa,使用时会更加精确安全
●当炉体温度高于1000℃时,炉管内不可处于真空状态,炉管内的气压需和大气压相当,保持在常压状态
●进入炉管的气体流量需小于200SCCM,以避免冷的大气流对加热石英管的冲击
●石英管的长时间使用温度<1100℃
●对于样品加热的实验,不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。若需要关闭气阀对样品加热,则需时刻关注压力表的示数,若气压表示数大于0.02MPa,必须立刻打开泄气阀,以防意外发生(如炉管破裂,法兰飞出等)
质量认证

CE Certified
1

保修期 一年保修,终身技术支持。
特别提示:
1.耗材部分如加热元件,石英管,样品坩埚等不包含在内。
2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内。
点击查看售后服务承诺书。
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