OTF-1200X-II-PE-RR是一套卷对卷石墨烯制备管式炉系统,设备由卷对卷铜箔收放密封装置、500W等离子源、1200℃双温区管式炉、三路质子流量计控制系统、真空机组5部分组成。此设备可用于大面积、高质量石墨烯及其他二维材料的规模化生长 。
性能指标和基本配置 |
1200℃双温区管式炉 | ● 工作电源:AC220V,50/60Hz ● 功率:3KW ● 加热元件:电阻丝 ● 温度:1200℃ (使用时必须通入惰性气体以防止炉管发生形变) ● 长期使用温度:1100℃ ● 推荐升温速率:≤ 20℃ /min ● 炉管:高纯石英管:φ80*1400mm ● 总加热区长度:400mm ● 恒温区长度:200mm ● PID控温,具有超温及断偶保护 ● 控温精度:±1℃ |
500W等离子源 | ● 输出功率:50-500W可调±1% ● RF频率: 13.56MHz,稳定性±0.005% ● 噪声:≤55DB ● 冷却:风冷 ● 输入功率:1KW AC 220V |
三路质子流量计控制系统 | ● 电压:AC220V/50Hz ● 功率:23W ● PLC触摸屏控制 ● 混气罐尺寸:φ80*120mm ● 工作温度:5~45 ºC ● 压力: 3x106 Pa ● 精度: ±1.5% FS ● 线性: ±(0.5-1.5)%F.S. ● 重复精度: ±0.2%F.S. ● 流量范围: ● 一路: 1~50 SCCM (甲烷标定) ● 二路: 1~200 SCCM (氢气标定) ● 三路: 1~200 SCCM (氩气标定) 气体种类标定根据客户要求可以进行其它选择 |
真空测量单元 | ● 型号:PGC-554-LD ● 显示范围:3.8E-5 to 1125 Torr 精度: ● 5×10-4 … 1×10-3 mbar (N2) % of reading ±50 ● 1×10-3 … 100 mbar (N2) % of reading ±15 ● 100 … 950 mbar % of reading ±5 ● 950 … 1050 mbar % of reading ±2.5 |
低真空机组(标配) | ● 由双旋机械泵、双层立式油雾过滤器(PE材质)、电阻真空计以及连接管道接头等组成 ● 真空泵抽气速率≥4.4L/s ● 极限真空度10-1Pa ● 真空计测量范围10-1Pa-105 Pa |
压力恒定控制系统(选配) | 压力恒定控制范围(进气气氛为氩气): ● 760mtorr(100Pa)-----225torr(30000Pa)(按照进气量为500sccm) ● 600mtorr(80Pa)-----200torr(26660Pa)(按照进气量为300sccm) ● 300mtorr(40Pa)-----185torr(24660Pa)(按照进气量为100sccm) ● 180mtorr(24Pa)-----100torr(13333Pa)(按照进气量为50sccm) 压力恒定控制精度: ● 180mtorr-----2.5torr(±%10) ● >2.5torr-----10torr(±%40) ● >10 torr------200torr(±%5) |
卷对卷铜箔收放密封装置 | ● 采用卷对卷收放卷机构进行铜箔的移动进出料,铜箔的移动速度为1-400mm/min可调; ● 配置一卷约5公斤重的铜箔,铜箔宽度:65mm,铜箔厚度0.025mm; ● 收放卷机构别放置于管式炉两端真空腔体内,保证铜箔可在密封生长条件下进行运动,实现大规模制备 。 ● 收卷机构与管式炉之间设置冷却装置用于铜箔的快速冷却。 |
石英气体喷嘴 | 可选配石英气体喷嘴,将反应气体与缓冲清洗气体分开通入,可有效减少副反应发生,实现CVD工艺,如局部控制前体浓度化学气相沉积工艺(ALC CVD)或单晶二维材料薄膜的生长工艺等。 |
产品尺寸 | 2400*600*1250mm |
产品重量 | 260kg |
质量认证 | 电器元件可选择通过CE认证 |
保修期 | 一年保修,终身技术支持。 特别提示: 1.耗材部分如加热元件,石英管,样品坩埚等不包含在内。 2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内。 点击查看售后服务承诺书。 |
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