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超高真空磁控溅射镀膜机知识点介绍

2026年04月15日 08:29:12      来源:北京时代天启真空科技有限公司 >> 进入该公司展台      阅读量:0

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此设备属于薄膜制备设备,首先,用于生长各种纳米尺度的单层膜或多层膜材料可制备超硬膜、耐腐蚀摩擦薄膜、超导薄膜、磁性薄膜、光学薄膜,以及各种具有特殊功能的薄膜,尤其是在微电子机械系统、微流体、纳米压印、微电子封装、生物芯片等跨学科领域有着重要应用。其次,用于第三代半导体开放研发线,能够成为SiC及GaN沟槽型器件的制备的关键工艺同时也是C膜、金属薄膜等类似薄膜制备手段之一。设备主要包括:


1、沉积反应腔

2、样品台系统

3、磁控溅射阴极靶系统

4、直流和射频供电系统

5、高真空无油排气系统

6、真空测量及控制系统

7、气体流量控制系统

8、LOAD-LOCK手动上下片系统

9、上位机软件控制系统

  以上就是小编为大家介绍的超高真空磁控溅射镀膜机的全部内容,看完这篇文章相信大家应该有所了解了!

  感谢大家耐心看完小编分享的文章,如果有需要了解更多超高真空磁控溅射镀膜机及反应离子刻蚀机的相关知识,欢迎联系我们,24小时竭诚为您服务!


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