VTC-3RF三靶射频磁控溅射镀膜仪，配有磁控等离子溅射头和射频（RF）等离子电源，此款设备主要用于制作非导电薄膜，特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索，它是一款廉价并且高效的实验帮手。
| 性能指标和基本配置 | ||||||
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| 主要特点 | ● 标配的石英腔体（也可选配金属腔体）方便观察（图1） | |||||
| 基本参数 | ● 输入电源：220V AC50/60Hz | |||||
| 机体结构 | ● 设备配备三个直流射频通用靶头，1英寸2英寸尺寸可选。 | |||||
| 产品尺寸 | 700mm L x 770 mm W x 1900 mm H | |||||
| 净重 | 80 kg（不包括泵） | |||||
| 认证 | CE认证 | |||||
| 保修期 | 一年保修，终身技术支持。 特别提示： 1.耗材部分如加热元件，石英管，样品坩埚等不包含在内。 2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内 点击查看售后服务承诺书。 | |||||
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